PhotoResist: Entwicklung eines neuartigen Prozesses für die Aufbringung des neuen Resists auf unebene Oberflächen von 3D-Testkörpern über die Oberfläche eines flüssigenMediums, indem dieses abgelassen und der Körper parallel hochgeschoben wird
02/2023 - 01/2025
Prof. Dr. rer. nat. Daniel Schondelmaier (Fakultät Physikalische Technik/Informatik)
WHZ-Forschungsprojekt
Prof. Dr. rer. nat. Daniel Schondelmaier
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